真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結(jié)爐等是物體在通入一定氣體的爐膛內(nèi)進(jìn)行燒結(jié)的方法。
真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù),真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于一個(gè)大氣壓的氣氛環(huán)境,包括低真空、中等真空、高真空和超高真空,真空熱處理實(shí)際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的,真空熱處理可以實(shí)現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝,但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比,真空熱處理的同時(shí),可實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳,可去掉工件表面的磷屑,并有脫脂除氣等作用,從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。
真空氣氛爐的工作原理?
上世紀(jì)80年代初,在研制高速鋼工具氧氮共滲技術(shù)時(shí),開始用低真空原理制造設(shè)備和試驗(yàn)配套I藝(即低壓氧氮共滲技術(shù)),工件在設(shè)定的低真空上限下限范圍內(nèi)自行循環(huán)加熱,爐氣在設(shè)定的時(shí)間周期內(nèi)自行反復(fù)吐故納新,解決了工件在滲氮、滲碳過程的密裝生產(chǎn)、爐氣老化、滲層均勻性等難題;根據(jù)適當(dāng)增加爐壓可增加N、C原子滲速[2~4],在低真空變壓的基礎(chǔ)上增加正壓變壓的工藝過程。這種先在低真空范圍變壓加熱,接著進(jìn)行正壓變壓加熱的工藝及其設(shè)備稱為低真空變壓熱處理技術(shù)。爐膛在低真空至正壓大范圍變壓加熱,以中性=氣體迅速置換爐膛中的空氣、水分等氧化物質(zhì),而后充以工藝規(guī)定的滲劑,使工件在設(shè)定的氣氛中加熱,加熱后如果在爐內(nèi)冷卻即可實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳淬火;如果加熱后在爐外冷卻,則工件從爐中取出時(shí)同空=氣接觸,產(chǎn)生少量氧化而實(shí)現(xiàn)少無氧化加熱。
擱置的真空氣氛爐究竟需不需要抽真空?
近來在網(wǎng)上看到有些朋友在討論真空氣氛爐在不使用的時(shí)候究競需不需要抽真空,針對(duì)這個(gè)問題,小編的看法是:
真空氣氛爐要求是在加熱、保溫、降溫全過程通氣氛保護(hù),降到常溫后就不需要保護(hù)了,而且常溫下的加熱元件是不容易氧化的,不需要保護(hù)。
b.抽真空主要是為了保護(hù)爐子內(nèi)部的隔熱層、電極,雖然常溫下不容易氧化,但是空氣中的水氣,對(duì)電爐的這些配件還是會(huì)有損傷的,所以說可抽真空也可以不抽,只要把爐門關(guān)好即可。
c,如果使用過程中抽真空了,那么-般都得真空保護(hù);有一些保溫層,如碳?xì)质桥卵趸?。碳?xì)直貙拥男枰檎婵栈蛘叱橥暾婵粘涞獨(dú)夥胖靡部梢浴?/div>
d.如果是真空爐,常溫不用的情況下需適當(dāng)加溫抽真空保護(hù)放置。這樣做的目的是保護(hù)里面的隔熱材料,防止其吸濕。
e.如果是硅鉬棒這樣的加熱元件是可以不需要抽真空保護(hù)的,但如果是石墨發(fā)熱體的話就需要保護(hù)。
f.在常溫條件下不會(huì)對(duì)發(fā)熱元件造成影響。所以說不用時(shí)不用抽真空。
綜上我們可以看出,真空氣氛爐擱置時(shí)是不需要抽真空的。